Listagem de Questões Concurso CTI
Considerando os sistemas operacionais Windows XP e Linux, julgue os itens a seguir.
Acerca de sistemas de vácuo, julgue os itens que se seguem.
O gás hélio pode ser usado na detecção de vazamentos muito pequenos em câmaras de ultra-alto vácuo, pois sua molécula é pequena. Quando passa pelo vazamento e entra no sistema, esse gás é facilmente detectado por um espectrômetro de massa que esteja acoplado à câmara de ultra-alto vácuo, demonstrando que naquele lugar existe um vazamento que permitiu a entrada desse gás.
Epitaxia é o crescimento regular e orientado de um cristal simples com espessura e dopagem controladas sobre um cristal simples e similar, chamado substrato. As técnicas epitaxiais são usadas para realizar junções, camadas ultrafinas, multipoços quânticos etc. com controle excelente na pureza, dopagem e espessura dos filmes. Existem muitas técnicas de epitaxia, mas as mais comuns são as epitaxias por fase líquida, por fase vapor e por feixe molecular. Com referência a essas técnicas, julgue os itens a seguir.
A técnica de epitaxia por fase líquida é baseada em um diagrama de equilíbrio entre a fase líquida e a fusão congruente do sólido. A fusão congruente ocorre em qualquer temperatura na qual o sólido e o líquido tenham a mesma composição.
A técnica de epitaxia por fase vapor é também chamada de deposição por vapor químico. Uma das modalidades de deposição por vapor químico mais usadas é a epitaxia por fase vapor de organometálicos.
Nas técnicas de epitaxia por fase líquida e por fase vapor, o crescimento de cristais semicondutores ocorre em condições de não-equilíbrio, diferentemente da técnica de epitaxia por feixe molecular, que se desenvolve em condições de quase-equilíbrio, sendo que o principal processo é o da cinética da superfície.
Navegue em mais matérias e assuntos
{TITLE}
{CONTENT}