Questões Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC

#Questão 113419 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Que fenômenos podem ocorrer no fotorresiste negativo após a exposição?

A) Ativação do foto-ácido, cross-link, dissolução do polímero.

B) Cross-link, polimerização, formação de grupos polares ou apolares, mudança do estado de oxidação dos íons.

C) Ativação do foto-ácido, polimerização, mobilização das cadeias poliméricas.

D) Dissolução do polímero, foto-ativação, difusão de íons.

E) Inibição do foto-ácido, estabilização térmica, cross-link.

#Questão 113421 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Quais as funções das curas no processamento do fotorresiste positivo, sotbake, PEB e hardbake respectivamente:

A) Amolecimento do fotorresiste, uniformização da área exposta, endurecimento do fotorresiste.

B) Amolecimento do fotorresiste, exposição do fotorresiste, endurecimento do fotorresiste.

C) Uniformização da camada, endurecimento do fotorresiste, interrupção da revelação.

D) Refluxo do fotorresiste, evaporação do solvente e inibição do foto-ácido.

E) Evaporação do solvente e ativação do foto-ácido, refluxo do fotorresiste e inibição do foto-ácido com estabilização do fotorresiste.

#Questão 113422 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Para verificar erros de alinhamento em dispositivos, podem ser utilizados dispositivos

A) elétricos simples e medidas de resistência.

B) observados do posicionamento da porta do transistor MOS.

C) alternativos além das marcas de alinhamento.

D) por interferometria ótica.

E) por microscopia holográfica.

#Questão 113424 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Como é verificado o erro de alinhamento entre níveis na litografia?

A) Através das marcas de alinhamento.

B) Através de estruturas do tipo Verniers.

C) Por interferência ótica.

D) Pela medição da largura de linha.

E) Pela resolução do sistema ótico.

#Questão 113425 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

O que é o erro de alinhamento?

A) É o erro observado entre a litografia e a corrosão.

B) É o deslocamento dentre os níveis de fabricação de um CI.

C) É o erro ocasionado pela distância entre a máscara litográfica e a lâmina de silício.

D) É a rotação entre máscara litográfica e a lâmina de silício.

E) É a má definição das estruturas litografadas.

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