Questões Concurso Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC

#Questão 485766 - Física, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Considerando as duas principais aplicações dos silicetos - porta em transistores MOS e como metal de contato sobre as regiões de fonte e dreno desses transistores - a escolha do siliceto para estas utilizações requer a observação do seguinte requisito:

A) máxima penetração na junção.

B) alta resistividade.

C) alta rugosidade.

D) existência de processo de corrosão seletiva do metal evaporado em relação ao siliceto.

E) Reação ao SiO₂ durante as temperaturas de silicetação.

#Questão 485768 - Física, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Assinale a opção que apresenta a vantagem em utilizar silicetos de metais refratários para contatos.

A) Habilidade que esses materiais apresentam para a formação de estruturas de contato auto-alinhadas.

B) Habilidade que esses materiais apresentam para a formação de estruturas de contato desalinhadas.

C) Esses materiais jamais formam estruturas de contato auto-alinhadas.

D) Não existe vantagem em utilizar silicetos de metais refratários para contatos.

E) Esses silicetos têm baixo ponto de fusão e, por isso, grande condutividade.

#Questão 485770 - Física, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Processos de Sputtering têm várias aplicações na produção de circuitos integrados. Considere o processo que envolve as etapas abaixo.

I – Emissão de um feixe de íons.

II – Íons se chocam contra o alvo, provocando o arrancamento de átomos do alvo.

III – Os átomos ejetados são termodinamicamente instáveis e depositam-se sobre as paredes da câmara e sobre o substrato.

IV – Os átomos recobrem o substrato com um filme fino.

O processo acima descrito corresponde a

A) Etching.

B) Espectrometria de massa por íons secundários.

C) Deposição química a partir de vapor.

D) Deposição química de vapor melhorada por plasma.

E) Deposição física de vapor por Sputtering.

#Questão 487035 - Língua Inglesa, Interpretação de Texto, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Advogado (AAO

According to Text I, Jonathan Asante is:

A) an investor working for the global emerging market equities at First State.

B) a consumer following the global emerging market equities at First State.

C) an emergent head representing the global emerging market equities at First State.

D) a fund manager leading the global emerging market equities at First State.

E) a teacher forecasting tendencies about the global emerging market equities at First State.

#Questão 487191 - Língua Inglesa, Interpretação de Texto, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Administrador (ETEA

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