Questões de Química da FUNRIO

#Questão 113424 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Como é verificado o erro de alinhamento entre níveis na litografia?

A) Através das marcas de alinhamento.

B) Através de estruturas do tipo Verniers.

C) Por interferência ótica.

D) Pela medição da largura de linha.

E) Pela resolução do sistema ótico.

#Questão 113425 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

O que é o erro de alinhamento?

A) É o erro observado entre a litografia e a corrosão.

B) É o deslocamento dentre os níveis de fabricação de um CI.

C) É o erro ocasionado pela distância entre a máscara litográfica e a lâmina de silício.

D) É a rotação entre máscara litográfica e a lâmina de silício.

E) É a má definição das estruturas litografadas.

#Questão 113427 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual a necessidade de estruturas de inspeção em litografia?

A) Para o controle do processo litográfico sem que haja a necessidade de fabricar totalmente o dispositivo.

B) Para testar o sistema ótico da alinhadora.

C) É utilizado como marca d’água pelo fabricante das máscaras.

D) Para o controle do projetista da máscara litográfica.

E) Só é utilizada ao término do dispositivo.

#Questão 113429 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Onde se aplica o limite de Abbe em fotolitografia?

A) No projeto das máscaras litográficas.

B) No projeto de lentes da alinhadora.

C) No cálculo do limite de resolução do sistema óptico das alinhadoras.

D) No limite do microscópio utilizado para o alinhamento.

E) Na escolha da lâmpada da alinhadora.

#Questão 113430 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

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