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Questões de Química do ano 2012

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Listagem de Questões de Química do ano 2012

#Questão 113421 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Quais as funções das curas no processamento do fotorresiste positivo, sotbake, PEB e hardbake respectivamente:

A) Amolecimento do fotorresiste, uniformização da área exposta, endurecimento do fotorresiste.

B) Amolecimento do fotorresiste, exposição do fotorresiste, endurecimento do fotorresiste.

C) Uniformização da camada, endurecimento do fotorresiste, interrupção da revelação.

D) Refluxo do fotorresiste, evaporação do solvente e inibição do foto-ácido.

E) Evaporação do solvente e ativação do foto-ácido, refluxo do fotorresiste e inibição do foto-ácido com estabilização do fotorresiste.

#Questão 113422 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Para verificar erros de alinhamento em dispositivos, podem ser utilizados dispositivos

A) elétricos simples e medidas de resistência.

B) observados do posicionamento da porta do transistor MOS.

C) alternativos além das marcas de alinhamento.

D) por interferometria ótica.

E) por microscopia holográfica.

#Questão 113424 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Como é verificado o erro de alinhamento entre níveis na litografia?

A) Através das marcas de alinhamento.

B) Através de estruturas do tipo Verniers.

C) Por interferência ótica.

D) Pela medição da largura de linha.

E) Pela resolução do sistema ótico.

#Questão 113425 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

O que é o erro de alinhamento?

A) É o erro observado entre a litografia e a corrosão.

B) É o deslocamento dentre os níveis de fabricação de um CI.

C) É o erro ocasionado pela distância entre a máscara litográfica e a lâmina de silício.

D) É a rotação entre máscara litográfica e a lâmina de silício.

E) É a má definição das estruturas litografadas.

#Questão 113427 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual a necessidade de estruturas de inspeção em litografia?

A) Para o controle do processo litográfico sem que haja a necessidade de fabricar totalmente o dispositivo.

B) Para testar o sistema ótico da alinhadora.

C) É utilizado como marca d’água pelo fabricante das máscaras.

D) Para o controle do projetista da máscara litográfica.

E) Só é utilizada ao término do dispositivo.

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