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Questões de Química do ano 2012

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Listagem de Questões de Química do ano 2012

#Questão 113384 - Química, Geral, CESGRANRIO, 2012, EPE, Analista de Gestão Corporativa

O reduzido teor de enxofre no gás natural NÃO contribui significativamente para a formação de

A) gás sulfídrico na atmosfera, que é a principal substância responsável pela formação de chuva ácida.

B) anidrido sulfúrico na atmosfera, que é a única substância responsável pela formação de chuva ácida.

C) anidrido sulfuroso na atmosfera, que é a única substância responsável pela formação de chuva ácida.

D) anidridos sulfúrico e sulfídrico na atmosfera, que são duas das principais substâncias responsáveis pela formação de chuva ácida.

E) anidridos sulfúrico e sulfuroso na atmosfera, que são duas das principais substâncias responsáveis pela formação de chuva ácida.

#Questão 113385 - Química, Geral, CESGRANRIO, 2012, EPE, Analista de Gestão Corporativa

Em relação aos hidrocarbonetos, constata-se que o

A) P é o etano, e o Q é o propano.

B) P é o metano, e o Q é o etano.

C) P é o metano, e o Q é o propano.

D) Q é o metano, e o R é o propano.

E) Q é o etano, e o R é o metano.

#Questão 113401 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Quais os principais materiais empregados em máscaras litográficas?

A) Emulsão fotográfica, cromo sobre quartzo e ferróxido sobre quartzo.

B) Cromo sobre vidro óptico, pirex com resina, negativo fotográfico.

C) Silício corroído, filmes finos de titânio, PDMS.

D) Película de Berílio, PDMS e PGMEA.

E) Cromo sobre quartzo, PDMS, Kapton.

#Questão 113402 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Como é definida a tolerância que pode ser aceita em um processo litográfico?

A) Pelas regras de leiaute do CI em ¼ da menor dimensão do dispositivo.

B) Pela tecnologia, atualmente em 0,27 micrometros.

C) Pela resolução do sistema ótico, 4 vezes a resolução do sistema.

D) Pela resolução do sistema ótico, 4 vezes o comprimento de onda.

E) Pelo menor passo da alinhadora.

#Questão 113404 - Química, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

O que é modo de contato em fotolitografia?

A) É o método utilizado para dupla exposição do fotorresiste sem perda de definição.

B) É o modo de exposição em que o substrato fica em contato íntimo com a máscara litográfica.

C) É o método de geração de imagem na superfície do fotorresiste com posterior difusão do solvente.

D) É o modo no qual a máscara litográfica é colocada próxima a fonte de UV.

E) É o uso de sistemas litográficos com fixação do substrato por vácuo no chuck da alinhadora.

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