Questões de Engenharia Elétrica do ano 2012

#Questão 413869 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Em três lâminas de Si iguais foram implantados os ions de ¹¹B⁺, na primeira, ³¹P⁺, na segunda e ⁷⁵As⁺, na terceira. Qual implantação de íons destruirá mais a rede cristalina em sua respectiva lâmina de Si. Nota: todas as implantações foram executadas com a mesma energia e dose, e em temperatura ambiente.

A) As três implantações destruirão por igual a rede cristalina do Si.

B) A implantação de íons de ³¹P⁺

C) A implantação de íons de ¹¹B⁺

D) A implantação de íons de ⁷⁵As⁺

E) As implantações de ⁷⁵As⁺ e ¹¹B⁺ destruirão por igual a rede cristalina do Si, e a de ³¹P⁺ destruirá mais.

#Questão 413871 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual processo deve ser executado para corrigir os danos causados pela implantação de íons em lâmina de Si?

A) Oxidação térmica seca.

B) Recozimento térmico em ambiente inerte.

C) Deposição a partir da fase vapor.

D) Oxidação térmica úmida.

E) Tratamento térmico em ambiente de oxigênio.

#Questão 413872 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual deve ser o ambiente interno no implantador de íons para executar o processo?

A) Ambiente inerte com gás nitrogênio.

B) Ambiente em vácuo com pressão em torno de 1 mTorr.

C) Ambiente em vácuo em pressão atmosférica.

D) Ambiente inerte com gás argônio.

E) Ambiente em vácuo com pressão menor que 10^-6 Torr.

#Questão 413874 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual é a função do analisador magnético do sistema de implantação de íons?

A) Selecionar a dose do feixe de íons.

B) Selecionar a energia do feixe de íons.

C) Selecionar a massa do íon.

D) Selecionar a corrente do feixe de íons.

E) Selecionar o ângulo de inclinação da lâmina para implantação.

#Questão 413876 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Que parte do sistema de implantação de íons faz a contagem de íons que penetram na lâmina e determina o final do processo?

A) Gaiola de Faraday com circuito integrador.

B) Fonte de íons.

C) Analisador Magnético.

D) Gaiola de Lorentz.

E) Fonte de átomos.

Questões de Engenharia Elétrica do ano 2012

Pesquise questões de concurso nos filtros abaixo