Questões de Engenharia Elétrica do ano 2012

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Listagem de Questões de Engenharia Elétrica do ano 2012

#Questão 413536 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

A remoção de fotorresiste por plasma (Ashing) é realizada utilizando descarga em quais gases?

#Questão 413537 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual a principal aplicação de plasmas na microeletrônica?

#Questão 413539 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Para detecção do ponto final de corrosão de lâminas de Si pela espectroscopia ótica, são utilizados sinais de emissão de radicais presentes no plasma:

#Questão 413541 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Qual a finalidade da fase do processo RIE chamada breakthrough?

#Questão 413543 - Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Maior seletividade em processos de corrosão de SiO2 em comparação com Si, é obtida com misturas de gases incluindo:

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