O tipo de reator de deposição química melhorada por plasm...

#Questão 485732 - Física, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

O tipo de reator de deposição química melhorada por plasma (PECVD) utilizado para obter um processamento de substratos com diâmetros maiores que 200 mm

A) é impossível ter substratos com diâmetros maiores que 200 mm.

B) é o de tubo horizontal.

C) é o de placas paralelas.

D) é o de substrato único.

E) é o de tubo vertical.

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