Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição q...

#Questão 485730 - Física, Geral, FUNRIO, 2012, Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC, Analista Administrativo

Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas

A) perpendiculares, tubo horizontal e substrato único.

B) paralelas, tubo horizontal e substrato duplo.

C) paralelas, tubo horizontal e substrato único.

D) paralelas, tubo vertical e substrato único.

E) paralelas, tubo vertical e substrato duplo.

Navegue em mais questões

Erro ao Ler: SQLSTATE[HY093]: Invalid parameter number: number of bound variables does not match number of tokens